比较功率金属氧化物半导体和双极功率晶体管
比较功率金属氧化物半导体和双极功率晶体管
金属氧化物半导体 | 双相 |
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多数载流子器件 | 少数载流子的设备 |
没有电荷存储效果 | 电荷存储在基地和收藏家 |
高开关速度,不如双温度敏感设备 | 开关速度低,温度敏感 |
漂流(快速流程) | 扩散电流(缓慢的过程) |
电压驱动的 | 电流驱动的 |
纯电容输入阻抗;不需要直流电流 | 低输入阻抗;直流电流要求 |
简单的驱动电路 | 高基极电流产生复杂的驱动电路(需求) |
Predominently负温度系数电阻 | 集电极电流的正温度系数 |
没有热失控 | 热失控 |
设备可以平行的一些预防措施 | 设备不能简单的因为V是匹配问题和局部电流的浓度 |
第二次击穿的影响较小 | 容易受到第二次故障 |
在低电流平方律电流-电压特性;在高电流线性电流-电压特性 | 指数电流-电压特性 |
更大的线性操作和更少的谐波 | 更多的相互调制和交叉调制产品 |
低导通电阻(低饱和电压)因为电导调制高电阻率的漂移区域 | 高导通电阻,因此更大的传导损失 |
漏极电流与通道宽度成正比 | 集电极电流大约与发射极条纹长度和面积成正比 |
低跨导 | 高跨导 |
高击穿电压的结果轻掺杂区域的通道阻塞连接 | 高击穿电压的结果轻掺杂区基地收集器阻塞连接 |